[实用新型]阵列基板和液晶显示器有效
申请号: | 201020173337.X | 申请日: | 2010-04-23 |
公开(公告)号: | CN201637973U | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 刘翔 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种阵列基板和液晶显示器,其中,阵列基板包括:衬底基板,所述衬底基板上形成有导电图案和绝缘层,所述导电图案包括采用铝或铝合金制作的栅线,在所述衬底基板和所述栅线之间设置有有机缓冲层,用于释放在所述阵列基板的制造过程中所述铝或铝合金释放的热应力。本实用新型的阵列基板和液晶显示器,通过在铝或铝合金的下面沉积一层有机缓冲层,使得在制作TFT后续工艺中,铝或铝合金产生的应力可以在有机缓冲层中释放,小丘也形成在该有机缓冲层中;由此避免了采用铝或铝合金制作栅线时出现的小丘对铝或铝合金上方的TFT的影响,从而提高了使用铝或铝合金制作栅线的TFT良品率。 | ||
搜索关键词: | 阵列 液晶显示器 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,包括衬底基板,所述衬底基板上形成有导电图案和绝缘层,其特征在于,所述导电图案包括采用铝或铝合金制作的栅线,在所述衬底基板和所述栅线之间设置有有机缓冲层,用于释放在所述阵列基板的制造过程中所述铝或铝合金释放的热应力。
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