[实用新型]一种X射线显微透射成像用窗口无效
| 申请号： | 201020214623.6 | 申请日： | 2010-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN201689695U | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 侯克玉;贺周同;孔旭东;王晟 | 申请（专利权）人： | 上海纳腾仪器有限公司 |
| 主分类号： | G21K7/00 | 分类号： | G21K7/00;C23C16/34;C23F1/02;C23F1/12 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 201616 上海市松江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于同步辐射X射线透射显微成像时承载工具，特别涉及一种X射线显微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片衬底、氮化硅薄膜窗口沟槽、控制厚度的低应力氮化硅薄膜，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅薄膜，比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。本实用新型的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域氮化硅薄膜窗口成膜光滑，强度大、致密性好，表面平整性很稳定(粗糙度小于1nm)，可应用于高温领域，具备较好的薄膜窗格透光性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 显微 透射 成像 窗口 | ||
【主权项】：
一种X射线显微透射成像用窗口，其特征在于，包括：一硅晶片衬底，所述硅晶片衬底包含衬底底部和衬底顶部；形成在所述硅晶片衬底上的一氮化硅薄膜窗口沟槽，所述氮化硅薄膜窗口沟槽为一倒置的包含一底面开口、一顶面开口的正四棱台空穴结构；所述底面开口位于所述衬底底部、所述顶面开口位于所述衬底顶部；以及设置在所述衬底底部的一层第一氮化硅薄膜。
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