[实用新型]一种用于容器加工的烧架定位装置无效

专利信息
申请号: 201020214884.8 申请日: 2010-06-04
公开(公告)号: CN201665697U 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 李承菊;王光辉 申请(专利权)人: 无锡百纳容器有限公司
主分类号: C21D9/14 分类号: C21D9/14
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 顾进
地址: 214112 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供的一种用于容器加工的烧架定位装置,包括油缸、托架、中频线圈,所述的托架的底部设置轨道滑轮,所述轨道滑轮与导轨相适配,托架上部设置旋转滚轮组,并在旋转滚轮组所对应的另侧位置设置由调节块、调节滑轨组成的定位装置和定位旋转滚轮组,所述定位装置的前端部设置有调节块,调节块的下部设置与其相适配的调节滑轨,该装置提高了工作效率,减少了废品率,品质得到大幅度的优化,并保证了其在加工过程的安全性。
搜索关键词: 一种 用于 容器 加工 定位 装置
【主权项】:
一种用于容器加工的烧架定位装置,包括油缸(11)、托架(12)、中频线圈(31),所述的托架(12)的底部设置轨道滑轮(15),所述轨道滑轮(15)与导轨(14)相适配,其特征在于:托架(12)上部设置旋转滚轮组(13),并在旋转滚轮组(13)所对应的另一侧位置设置由调节块(22)、调节滑轨(23)组成的定位装置和定位旋转滚轮组(21),所述定位装置的前端部设置有调节块(22),调节块(22)的下部设置与其相适配的调节滑轨(23)。
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