[实用新型]一种均匀进液的电解槽结构无效
申请号: | 201020282276.0 | 申请日: | 2010-08-04 |
公开(公告)号: | CN201809457U | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 钱春陵;孙启航 | 申请(专利权)人: | 肇庆市飞南金属有限公司 |
主分类号: | C25C7/00 | 分类号: | C25C7/00;C25C1/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 526233 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种均匀进液的电解槽结构,主要结构包括槽体和进液支管。位于槽体内的进液支管的末端垂直设置有分流管,分流管的底部均匀开设有一个或一个以上的分流孔,进液支管设置在槽体的内壁上。由进液支管循环回槽体内的电解液被分流管分流,并均匀注入到电解槽内。本实用新型具有结构简单,并且能实现向槽体内提供均匀的电解液,让电解槽获得均匀分布的铜离子,提高产品质量,简化设备结构,降低设备投入,降低企业成本等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 均匀 电解槽 结构 | ||
【主权项】:
一种均匀进液的电解槽结构,主要结构包括槽体(1)和进液支管(2),其特征在于进液支管(2)末端垂直设置有分流管(3),分流管(3)的底部均匀开设有一个或一个以上的分流孔(4)。
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