[实用新型]摩擦取向设备有效

专利信息
申请号: 201020524793.4 申请日: 2010-09-09
公开(公告)号: CN201804186U 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 钱志刚 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G01B21/02
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 李勇
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种摩擦取向设备,包括第一气缸、第二气缸、支架及安装在所述支架上的摩擦轮辊,其中,还包括:用于检测所述摩擦轮辊与机台之间间隙的变化量的位移传感器及用于根据所述位移传感器检测到的数据控制所述第一气缸、第二气缸升降的调节模块,所述位移传感器至少为2个,安装在所述支架的横梁上,所述调节模块与所述位移传感器及所述第一气缸、第二气缸相连。通过多个位移传感器,能够实时获得摩擦辊轮与机台间的间隙在整个摩擦取向过程中的变化,并通第一过气缸和第二气缸进行高度调节,保证摩擦辊轮和机台始终保持平行状态,使整个基板上各点的摩擦强度相同,提高了摩擦处理的均一性,从而改善产品品质。
搜索关键词: 摩擦 取向 设备
【主权项】:
一种摩擦取向设备,包括第一气缸、第二气缸、支架及安装在所述支架上的摩擦轮辊,其特征在于,还包括:用于检测所述摩擦轮辊与机台之间间隙的变化量的位移传感器及用于根据所述位移传感器检测到的数据控制所述第一气缸、第二气缸升降的调节模块,所述位移传感器至少为2个,安装在所述支架的横梁上,所述调节模块与所述位移传感器及所述第一气缸、第二气缸相连。
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