[实用新型]非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备有效
申请号: | 201020540460.0 | 申请日: | 2010-09-25 |
公开(公告)号: | CN201801589U | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 陈五奎;李文江;任陈平;刘强;黄振华 | 申请(专利权)人: | 深圳市拓日新能源科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/24 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型适用于太阳能电池生产领域,提供了一种非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,包括一等离子腔体、加热系统、气路系统、真空系统、供电系统、夹具,所述等离子腔体为可密闭的圆筒形单腔室,与真空系统及气路系统相连,所述夹具置于所述等离子腔体内,所述加热系统为一设有加热器的油箱,设置于所述等离子腔体下方,所述供电系统由多个控制单元组成,所述夹具上设有多个供电端口,该多个控制单元分别与该多个供电端口一一对应相连接。这样设计的等离子体增强化学气相沉积设备可以沉积大尺寸非晶硅薄膜太阳能电池板,且能保证沉积的薄膜厚度均匀、质量稳定,并提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 非晶硅 薄膜 等离子体 增强 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,包括一等离子腔体、加热系统、气路系统、真空系统、供电系统、夹具,其特征在于:所述等离子腔体为可密闭的圆筒形单腔室,与真空系统及气路系统相连,所述夹具置于所述等离子腔体内,所述加热系统为一设有加热器的油箱,设置于所述等离子腔体下方,所述供电系统由多个控制单元组成,所述夹具上设有多个供电端口,该多个控制单元分别与该多个供电端口一一对应相连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的