[实用新型]光学量测设备有效
| 申请号： | 201020543477.1 | 申请日： | 2010-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN201852559U | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 王家威 | 申请（专利权）人： | 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/26;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215121 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型揭露一种光学量测设备，供与光学膜片配合使用，该光学量测设备包含治具及位置感测装置。该治具具有第一侧壁、第二侧壁及连接第一侧壁及第二侧壁的底座，第一侧壁、第二侧壁及底座共同形成容置空间供放置光学膜片，该第一侧壁与该第二侧壁彼此平行，且该第一侧壁高度大于该第二侧壁的高度。该位置感测装置设于该容置空间内，供测量光学膜片侧缘与底座间的密合程度。当光学膜片贴附于第一侧壁上，藉由第一侧壁上的检视孔量测光学膜片的吸收轴角度。相较于传统技术，本实用新型的光学量测设备具有结构简单，便于检测且测量更准确的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 设备 | ||
【主权项】：
一种光学量测设备，供与光学膜片配合使用，其特征在于包含：治具，具有第一侧壁、第二侧壁及连接该第一侧壁及该第二侧壁的底座，该第一侧壁、该第二侧壁及该底座共同形成容置空间，该第一侧壁与该第二侧壁平行，且该第一侧壁高度大于该第二侧壁的高度；以及供测量该光学膜片与该底座间的密合程度的位置感测装置，设置于该容置空间内。
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