[实用新型]硅片清洗槽水位控制装置无效
| 申请号： | 201020546554.9 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN201859354U | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 屈莹;郝子龙;何垚;梁雪美 | 申请（专利权）人： | 常州亿晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G05D9/12 | 分类号： | G05D9/12;B08B3/00 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 周祥生 |
| 地址： | 213200 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽、进水阀、透明观察管、低位光电开关、高位光电开关和电磁换向阀，透明观察管与清洗槽的底部相通连，透明观察管的高度与清洗槽的高度一致，在透明观察管上标有最低水位标记和最高水位标记，采用光电开关和电磁阀则能对清洗槽的水位进行自动监控和补液。透明观察管的增设提高了人们观察精度，确保清洗槽内的水位始终符合清洗工艺要求。若配备了光电开关，光电开关可以自动感知透明观察管中的实际水位，然后由电磁阀来控制进水阀向清洗槽内加水。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 清洗 水位 控制 装置 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽(1)和进水阀(2)，其特征是：它还包括透明观察管(3)，透明观察管(3)的底部与清洗槽(1)的底部相通连，透明观察管(3)的高度与清洗槽(1)的高度一致。
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