[实用新型]一种离子注入和等离子体沉积薄膜的设备有效
| 申请号： | 201020553835.7 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN201826010U | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 谢新林;杨念群 | 申请（专利权）人： | 深圳市信诺泰创业投资企业(普通合伙) |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/48;C23C14/32 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人： | 万学堂;曾海艳 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种离子注入和等离子体沉积设备，该设备包括离子源和真空室，其中，所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及用于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、冷却部件、收卷辊；所述冷却部件由至少所述1根冷却辊组成，所述冷却辊、所述放卷辊和所述收卷辊都相互平行，并且所述冷却辊的轴向与所述等离子体进入所述真空室的方向垂直；所述冷却辊与所述开口在水平高度上一一对应，或者所述开口与所述冷却辊在左右方向或者前后方向上一一对应；或者所述冷却辊相对应地位于所述开口的正下方或者正上方。本实用新型提供的设备能够对薄膜进行连续的等离子体沉积和/或离子注入操作。因此，大大提高生产效率，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 等离子体 沉积 薄膜 设备 | ||
【主权项】：
一种离子注入和等离子体沉积薄膜的设备，该设备包括离子源和真空室，其特征在于：所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及至少1个用于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、冷却部件、收卷辊；所述冷却部件置于所述放卷辊和所述收卷辊之间；所述冷却部件由所述至少1根可以自由转动的、中空且内通冷却介质的冷却辊组成，所述冷却辊、所述放卷辊和所述收卷辊都相互平行，并且所述冷却辊的轴向与所述等离子体进入所述真空室的方向垂直；所述等离子体进入所述真空室的方向与所述冷却辊的轴向均为水平方向，所述冷却辊与所述开口在水平高度上一一对应；或者所述等离子体进入所述真空室的方向为水平方向，所述冷却辊的轴向为竖直方向，所述开口与所述冷却辊在左右方向或者前后方向上一一对应；或者所述等离子体进入所述真空室的方向为竖直方向，所述冷却辊相对应地位于所述开口的正下方或者正上方。
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