[实用新型]一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统有效
| 申请号： | 201020567155.0 | 申请日： | 2010-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN201834972U | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 吴超;李建光;何世武;李明军;崔磊;王大定 | 申请（专利权）人： | 深圳市洁驰科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/46 | 分类号： | C23F1/46;C23F1/34 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市宝安*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型适用于蚀刻领域，提供了一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，该再生系统包括蚀刻缸、蚀刻废液中转槽、离子膜电解槽、再生蚀刻液槽，该离子膜电解槽通过离子交换膜分为阳极室和阴极室，该蚀刻废液中转槽将蚀刻缸和阳极室相连通，该蚀刻废液中转槽储存来自于蚀刻缸中并用于供给至阳极室的蚀刻废液，该再生蚀刻液槽将阳极室和蚀刻缸相连通，该再生蚀刻液槽储存阳极室中再生蚀刻液并用于提供至蚀刻缸。本实用新型再生系统，利用氯离子电解产生强氧化剂氯气，来氧化蚀刻废液中的亚铜离子，解决了现有技术需要额外添加氧化剂来氧化亚铜离子的技术问题，降低了生成成本，而且不添加杂质到再生蚀刻液中，保证了再生蚀刻液和新鲜蚀刻液的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 酸性 蚀刻 再生 系统 | ||
【主权项】：
一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，其特征在于，所述再生系统包括蚀刻缸、蚀刻废液中转槽、离子膜电解槽、再生蚀刻液槽，所述离子膜电解槽通过离子交换膜分为阳极室和阴极室，所述蚀刻废液中转槽将蚀刻缸和阳极室相连通，所述蚀刻废液中转槽储存来自于蚀刻缸中并用于供给至阳极室的蚀刻废液，所述再生蚀刻液槽将阳极室和蚀刻缸相连通，所述再生蚀刻液槽储存阳极室中再生蚀刻液并用于提供至蚀刻缸。
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