[实用新型]物理气相沉积主机台的传送腔有效
申请号: | 201020584379.2 | 申请日: | 2010-10-29 |
公开(公告)号: | CN202054886U | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 刘兆虎;谢诚;方文勇;李江风 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22;C23C14/56 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 430205 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种物理气相沉积主机台的传送腔,所述物理气相沉积主机台的传送腔包括传送腔体和传送腔盖,所述传送腔盖与传送腔体匹配,所述传送腔盖能够闭合或者打开,所述传送腔体上还设置有两个或者两个以上的定位销,在所述传送腔盖闭合时,所述定位销用于固定所述传送腔盖的位置。当传送腔盖被闭合时,在定位销的作用下,传送腔盖可与传送腔体严密闭合,从而可确保待加工晶圆位置准确,提高产品良率。 | ||
搜索关键词: | 物理 沉积 主机 传送 | ||
【主权项】:
一种物理气相沉积主机台的传送腔,包括传送腔体和传送腔盖,所述传送腔盖与传送腔体匹配,所述传送腔盖能够闭合或者打开,其特征在于:所述传送腔体上还设置有两个或者两个以上的定位销,在所述传送腔盖闭合时,所述定位销用于固定所述传送腔盖的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020584379.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:挤干辊与万向传动轴的连接机构
- 下一篇:变质处理过程中的变质剂加入装置
- 同类专利
- 专利分类