[实用新型]曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线无效
申请号: | 201020585892.3 | 申请日: | 2010-10-28 |
公开(公告)号: | CN201877576U | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
发明(设计)人: | 谢泽明;褚庆昕;熊尚书 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01Q13/02 | 分类号: | H01Q13/02;H01Q19/17;H01Q15/16;H01Q21/00 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 梁莹;李卫东 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型为一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线,其由反射面和馈源阵列组成;天线的反射面是用一条在水平面上焦距较短的抛物线沿着垂直面上的另一条焦距较长抛物线形成的一个双焦抛物反射面,馈源阵列是将多个喇叭天线排列在由上述长焦抛物线平移到上述短焦抛物线的焦点处形成的抛物线上所组成抛物曲线馈源阵列,每个喇叭天线的相位根据惠更斯——菲聂耳原理进行设置,每个喇叭天线在最大辐射方向上达到最大的同相合成。馈源阵列进行空间功率合成,产生的辐射照射双焦抛物反射面,双焦抛物反射面反射电磁波形成需要的波束以提高天线增益。该天线结构简单,增益高。 | ||
搜索关键词: | 曲线 阵列 馈源 双焦抛物 反射 空间 功率 合成 天线 | ||
【主权项】:
一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线,其特征是,由反射面和馈源阵列组成;所述反射面是将位于x y平面的第一抛物曲线的顶点放在位于y z平面的第二抛物曲线上,在保持第一抛物曲线所在的平面与第二抛物曲线垂直的状态下,由第一抛物曲线沿第二抛物曲线扫描形成的双焦抛物曲面,其中,第一抛物曲线的焦距F1<第二抛物曲线的焦距F2;所述馈源阵列是指按第三抛物曲线排列的喇叭天线,所述第三抛物曲线是第二抛物曲线在y z平面上沿第二抛物曲线的轴线平移到第一抛物曲线的焦点所形成的抛物曲线;所述喇叭天线排列时其相位中心在第三抛物曲线上,所有喇叭天线的指向平行,且方向在第一抛物曲线的张角的中间;所述每个喇叭天线的馈电相位φ按照如下公式配置: φ = - j 2 π λ l 式中:φ为喇叭天线的馈电相位,λ为电磁波波长,l为喇叭天线的相位中心到第二抛物曲线的焦点的距离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020585892.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于整合的氨-尿素方法的系统和方法
- 下一篇:汽车玻璃导轨支架