[实用新型]平板PECVD装置的挂钩有效
申请号: | 201020613080.5 | 申请日: | 2010-11-17 |
公开(公告)号: | CN201864776U | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 钱明星;郭建东;麻晓园;韩少鹏;孙林杰 | 申请(专利权)人: | 江阴浚鑫科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 214443 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型实施例公开了一种平板PECVD装置的挂钩,用于支撑硅片,包括夹持部,该夹持部包括相对设置且形成夹持槽的第一夹持壁和第二夹持壁;设置在夹持部的底侧的两端的第一挂钩本体和第二挂钩本体,第一挂钩本体与第一夹持壁连接的连接部内凹于第一夹持壁的外侧面,第二挂钩本体与第二夹持壁连接的连接部内凹于第二夹持壁的外侧面。本实用新型提供的PECVD装置的挂钩中,第一挂钩本体与第一夹持壁连接的连接部内凹于所述第一夹持壁的外侧面,第二挂钩本体与第二夹持壁连接的连接部内凹于第二夹持壁的外侧面,减小了钩尖与硅片的接触处的钩点距硅片边缘的距离,由于硅片的边缘并没有栅线,从而减小了硅片上钩点的漏电流。 | ||
搜索关键词: | 平板 pecvd 装置 挂钩 | ||
【主权项】:
一种平板PECVD装置的挂钩,用于支撑太阳能电池片生产用硅片,其特征在于,包括:夹持部,该夹持部包括相对设置且形成夹持槽的第一夹持壁和第二夹持壁;设置在所述夹持部的底侧的两端的第一挂钩本体和第二挂钩本体,所述第一挂钩本体与所述第一夹持壁连接的连接部内凹于所述第一夹持壁的外侧面,所述第二挂钩本体与所述第二夹持壁连接的连接部内凹于所述第二夹持壁的外侧面。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的