[实用新型]用于化学气相淀积工艺的真空除尘系统有效
| 申请号： | 201020621745.7 | 申请日： | 2010-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN201906534U | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 王晓峰 | 申请（专利权）人： | 扬州晶新微电子有限公司 |
| 主分类号： | B01D47/02 | 分类号： | B01D47/02;B01D45/08;B01D46/16;B08B5/04 |
| 代理公司： | 扬州苏中专利事务所(普通合伙) 32222 | 代理人： | 孙忠明 |
| 地址： | 225009 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于化学气相淀积工艺的真空除尘系统,包括位于化学气相淀积车间内的供操作者手持的吸尘口，该吸尘口能够经由管道阀门的接口连接于吸尘主管，该吸尘主管连接于吸尘室，该吸尘室内设置有配置为成不同方位的至少两个挡尘板以及滤网，所述吸尘室经由进风管连接于高压鼓风机的吸气口，该高压鼓风机用作吸、吐含尘气流动力源，其出风口通过出风管连接于容纳有粉尘沉淀液的粉尘沉淀池，该粉尘沉淀池位于所述化学气相淀积车间的外部。该真空除尘系统不仅能够有效地除尘，而且能够有效地避免在清扫CVD设备时室内空气扬尘，不会影响相邻CVD设备的正常工作，从而提高CVD工艺的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 气相淀积 工艺 真空 除尘 系统 | ||
【主权项】：
用于化学气相淀积工艺的真空除尘系统，其特征是，包括位于化学气相淀积车间内的供操作者手持的吸尘口(1)，该吸尘口(1)能够经由管道阀门的接口连接于吸尘主管(6)，该吸尘主管(6)连接于吸尘室(7)，该吸尘室(7)内设置有配置为成不同方位的至少两个挡尘板(3)以及滤网(2)，所述吸尘室(7)经由进风管(9)连接于高压鼓风机(10)的吸气口，该高压鼓风机(10)的出风口通过出风管(4)连接于容纳有粉尘沉淀液的粉尘沉淀池(11)，该粉尘沉淀池(11)位于所述化学气相淀积车间的外部。
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