[实用新型]一种应用在单晶炉中的热屏装置有效
| 申请号： | 201020632882.0 | 申请日： | 2010-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN201942779U | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 韩焕鹏;刘锋;吴磊;周传月;王世援 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
| 主分类号： | C30B15/00 | 分类号： | C30B15/00 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 梁军 |
| 地址： | 300220*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用在单晶炉中的热屏装置，包括：支架，设置在单晶炉的保温罩上方；第一导流筒，形状为圆台的中空结构，第一导流筒的下底面向外延伸有第一安装边，上底面向内延伸有第一卡滞沿；第一安装边与支架配合；第二导流筒，形状为圆台的中空结构，第二导流筒的下底面向外延伸有第二安装边，上底面向内延伸有第二卡滞沿；第二安装边与第一卡滞沿配合；第三导流筒，形状为圆台的中空结构，第三导流筒的下底面向外延伸有第三安装边；第三安装边与第二卡滞沿配合。本实用新型具有保温和气体导流的双重作用，加大了生长界面的温度梯度和晶体散热速度，可解决晶体生长过程中产生的扭曲变形情况，改善晶体质量和成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用 单晶炉 中的 装置 | ||
【主权项】：
一种应用在单晶炉中的热屏装置，其特征在于，所述热屏装置包括：支架，设置在单晶炉的保温罩上方；第一导流筒，形状为圆台的中空结构，所述第一导流筒的下底面向外延伸有第一安装边，上底面向内延伸有第一卡滞沿；所述第一安装边与所述支架配合；第二导流筒，形状为圆台的中空结构，所述第二导流筒的下底面向外延伸有第二安装边，上底面向内延伸有第二卡滞沿；所述第二安装边与所述第一卡滞沿配合；第三导流筒，形状为圆台的中空结构，所述第三导流筒的下底面向外延伸有第三安装边；所述第三安装边与所述第二卡滞沿配合。
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