[实用新型]用于清洗仪表探头的气洗装置及氢氟处理系统有效
| 申请号： | 201020639425.4 | 申请日： | 2010-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN201940399U | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 王兴宇;张云秀;赵记;杨文俊;厉晓华 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;C02F1/58;C02F101/14 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 公开了一种用于清洗仪表探头的气洗装置，其包括：仪表探头保护套和气洗机构，所述仪表探头容置于仪表探头保护套内，所述气洗机构包括基座和设于基座内的喷嘴，所述基座和所述仪表探头保护套连接，所述喷嘴与所述仪表探头相对，且所述仪表探头在所述喷嘴的射程范围内，且所述喷嘴经高压气管与供气源连接。还公开了一种采用上述用于清洗仪表探头的气洗装置氢氟处理系统。通过将仪表探头安装在气洗装置的仪表探头保护套里，使得气洗机构的喷嘴对着所述仪表探头，从而使得从喷嘴出来的高压气体冲洗仪表探头，可以及时将沉淀在仪表探头的CaF2小颗粒冲洗掉，以确保仪表探头表面清洁，进而保证仪表探头的灵敏度，最终实现仪表探头的可靠稳定工作。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洗 仪表 探头 装置 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种用于清洗仪表探头的气洗装置，其特征在于，包括：仪表探头保护套和气洗机构，所述仪表探头容置于所述仪表探头保护套内，所述气洗机构包括基座和设于所述基座内的喷嘴，所述基座和所述仪表探头保护套连接，所述喷嘴与所述仪表探头相对，且所述仪表探头在所述喷嘴的射程范围内，且所述喷嘴经高压气管与供气源连接。
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