[实用新型]研磨垫调节器的处理面结构

摘要

本实用新型是一种研磨垫调节器的处理面结构，其包括一外框、一底材、一固着层、一第一研磨区及复数个第二研磨区。其中，该底材及该固着层设置于该外壳内，使该底材被包覆于该固着层及该外壳之间，该第一研磨区是均匀分布于该固着层表面，所述的这些第二研磨区是以等分或等距的方式分布于该固着层表面，使该第二研磨区内的第二磨粒的尖端高度高于该第一研磨区的第一磨粒的尖端高度。据此，本实用新型处理一研磨垫时，利用该第二研磨区的高低落差，使该研磨垫的表面获得更好的细致粗糙度及平整度。

主权项

一种研磨垫调节器的处理面结构，其特征在于，包括：一外框，其内部具有一容置空间；一底材，设于该外框内；一固着层，设于该外框内而包覆该底材；一第一研磨区，由复数个第一磨粒均匀分布形成于该固着层表面；及复数个第二研磨区，由复数个第二磨粒均匀分布形成于该固着层表面，所述的这些第二研磨区等分分布于该固着层表面，所述的这些第二研磨区内的所述的这些第二磨粒的尖端高度高于该第一研磨区的所述的这些第一磨粒的尖端高度。