[实用新型]压舱水处理系统有效
| 申请号： | 201020649690.0 | 申请日： | 2010-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN201923865U | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 哈罗德·E·奇尔德斯;R·费尔南德斯;鲁道夫·马陶谢克;J·B·穆尔 | 申请（专利权）人： | 赛温德罗有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/461 | 分类号： | C02F1/461;C02F1/76 |
| 代理公司： | 北京市路盛律师事务所 11326 | 代理人： | 唐超尘 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于处理压舱水的系统包括一个或多个与水源流体连通的电解池，该电解池适于从水源供给的水中产生一种或多种氧化剂、用于测定与压舱水相关的一个或多个参数的一个或多个装置、测定压舱水的第一氧化/还原电位的第一氧化/还原电位(ORP)探针、和用于对电解池产生的氧化剂的量进行控制的装置。用于对产生的氧化剂的量进行控制的装置包括使所述一个或多个参数与压舱水的所需卤素含量相关联并且使测定的第一氧化/还原电位与压舱水的第一实际卤素含量相关联的关联装置、和用于根据压舱水的所需卤素含量与压舱水的实际卤素含量的比较值调节施加在电解池上的电流强度和电压中的至少一个的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 系统 | ||
【主权项】：
一种用于处理压舱水的系统，其包括：一个或多个与水源流体连通的电解池，该电解池适于从水源供给的水中产生一种或多种氧化剂；用于测定与压舱水相关的一个或多个参数的一个或多个装置；测定压舱水的第一氧化/还原电位的第一氧化/还原电位(ORP)探针；用于对电解池产生的氧化剂的量进行控制的装置，该用于控制的装置包括：使所述一个或多个参数与压舱水的所需卤素含量相关联并且使测定的第一氧化/还原电位与压舱水的第一实际卤素含量相关联的关联装置；以及用于根据压舱水的所需卤素含量与压舱水的实际卤素含量的比较值调节施加在电解池上的电流强度和电压中的至少一个的装置。
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