[实用新型]光刻胶涂覆设备有效
| 申请号： | 201020656949.4 | 申请日： | 2010-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN201867585U | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 张金中 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻胶涂覆设备，包括涂覆基台和涂胶杆，还包括：前导件，位于所述涂覆基台上所述涂胶杆从静止处到开始匀速移动处的下方；所述前导件的尾端位于所述涂覆基台上所述涂胶杆开始匀速移动处的下方；后导件，位于所述涂覆基台上所述涂胶杆从开始减速处到停止处的下方；所述后导件的开始端位于所述涂覆基台上所述涂胶杆开始减速处的下方。通过在涂胶杆的启动加速段和停止减速段分别设置前导件和后导件，保证了启动加速段与停止减速段之间的成膜基板上的涂胶过程为匀速涂胶过程。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂覆 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻胶涂覆设备，包括涂覆基台和涂胶杆，其特征在于，还包括：前导件，位于所述涂覆基台上所述涂胶杆从静止处到开始匀速移动处的下方；所述前导件的尾端位于所述涂覆基台上所述涂胶杆开始匀速移动处的下方；后导件，位于所述涂覆基台上所述涂胶杆从开始减速处到停止处的下方；所述后导件的开始端位于所述涂覆基台上所述涂胶杆开始减速处的下方。
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