[实用新型]一种平板式等离子镀膜设备除尘装置无效
申请号: | 201020666572.0 | 申请日: | 2010-12-18 |
公开(公告)号: | CN201908129U | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 李云峰 | 申请(专利权)人: | 广东爱康太阳能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;B08B5/00 |
代理公司: | 广州市深研专利事务所 44229 | 代理人: | 陈雅平 |
地址: | 528100 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种平板式等离子镀膜设备除尘装置,设置在平板式镀膜设备的出口处,其特征在于,它包括一垂直于载板移动方向的风刀,风刀设置在一端密闭的管上,该管外接空气压缩机。本实用新型结构简单,装置可在载板运行到出料口时自动启动,有效的去除镀膜工件表面灰尘,并且在流水线生产过程中,不增加额外的手动操作和影响节拍时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 平板 等离子 镀膜 设备 除尘 装置 | ||
【主权项】:
一种平板式等离子镀膜设备除尘装置,设置在平板式镀膜设备的出口处,其特征在于,它包括一垂直于载板移动方向的风刀,风刀设置在一端密闭的管上,该管外接空气压缩机。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的