[实用新型]钛溅射环、应用该钛溅射环的溅射反应器有效
| 申请号： | 201020692637.9 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN201918355U | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;陈勇军 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种钛溅射环，应用于8英寸硅片的生产过程，该钛溅射环上具有花纹，所述花纹的大小大于80TPI，小于20TPI。本实用新型实施例提供的钛溅射环，通过在钛溅射环表面增加花纹，以增强钛溅射环的吸附能力，从而保证溅射形成的膜层的均匀性。本实用新型还公开了一种应用该钛溅射环的溅射反应器。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 应用 反应器 | ||
【主权项】：
一种钛溅射环，该钛溅射环上具有花纹，其特征在于，所述花纹的大小大于80TPI、小于20TPI。
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