[实用新型]真空灭弧室无效
| 申请号： | 201020693478.4 | 申请日： | 2010-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN201985027U | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | D·根奇 | 申请（专利权）人： | ABB技术股份公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 董华林 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空灭弧室，两个触头元件在该真空灭弧室内能打开和闭合并且设置在朝外封闭的真空中，在位于真空灭弧室内部的铜构件内的元件中，设置侧向的盲孔(2)，除气材料作为粉末材料安放在盲孔中并且用筛子(4)封闭。上述方案一方面非常简单，但是在真空灭弧室内也具有显著的有效性。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 灭弧室 | ||
【主权项】：
真空灭弧室，两个触头元件在该真空灭弧室内能打开和闭合并且设置在朝外封闭的真空中，其特征在于：在位于真空灭弧室内部的铜构件内的元件中，设置侧向的盲孔(2)，除气材料作为粉末材料安放在盲孔中并且用筛子(4)封闭。
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