[发明专利]酞菁纳米线、含有它的油墨组合物及电子元件、以及酞菁纳米线的制造方法有效
| 申请号： | 201080003942.5 | 申请日： | 2010-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102272234A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 饵取秀树;村田秀之;深泽宪正;稻垣翔;五十住宏;笠井正纪 | 申请（专利权）人： | DIC株式会社 |
| 主分类号： | C09B47/04 | 分类号： | C09B47/04;B82B1/00;B82B3/00;C09B47/24;C09B67/22;C09D11/00;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供短径为100nm以下且长度相对于该短径的比率(长度/短径)为10以上的酞菁纳米线，以及特征在于以该酞菁纳米线和有机溶剂为必须成分的油墨组合物、含有酞菁纳米线的膜、具有该膜的电子元件。由于含有本发明的酞菁纳米线的油墨组合物可通过涂布及印刷等湿法工艺成膜，因此可以在柔性塑料基板上提供不容易损坏的轻量而便宜的电子元件。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 含有 油墨 组合 电子元件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种酞菁纳米线，其特征在于，其为含有酞菁及酞菁衍生物的酞菁纳米线，其短径为100nm以下，长度相对于该短径的比率(长度/短径)为10以上。
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