[发明专利]等离子体处理装置

摘要

该等离子体处理装置，包括：处理室，由腔室(2)、电极法兰(4)、和绝缘法兰(81)构成，并具有反应室(α)；支撑部(15)，收容在所述反应室(α)内，载置有基板(10)；簇射极板(5)，收容在所述反应室(α)内，以与所述基板(10)对置的方式配置，并向所述基板(101)提供工艺气体；多个气体提供部(8)，被设置在所述电极法兰(4)与所述簇射极板(5)之间的空间(31)内，与多个气体导入口(34)分别连通，并被配置为同心状且环状，且向所述簇射极板(5)独立提供不同组成的所述工艺气体；以及电压施加部(33)，在所述簇射极板(5)与所述支撑部(15)之间施加电压。

主权项

一种等离子体处理装置，包括：处理室，由腔室、具有多个气体导入口的电极法兰、和由所述腔室与所述电极法兰夹着的绝缘法兰形成，并具有反应室；支撑部，收容在所述反应室内，载置有基板，并控制所述基板的温度；簇射极板，收容在所述反应室内，以与所述基板对置的方式配置，并向所述基板提供工艺气体；多个气体提供部，被设置在所述电极法兰与所述簇射极板之间的空间内，与多个所述气体导入口分别连通，并被配置为同心状且环状，且向所述簇射极板独立提供不同组成的所述工艺气体；以及电压施加部，在所述簇射极板与所述支撑部之间施加电压。