[发明专利]X射线成像装置和X射线成像方法有效
| 申请号： | 201080004291.1 | 申请日： | 2010-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN102272860A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 向出大平;高田一广;福田一德;渡边壮俊 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 卜荣丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 可以获得考虑被检体的X射线吸收效果的微分相位图像或相位图像的尺寸减小的X射线成像装置和方法。测量被分离元件分离并且穿过被检体的X射线的位移。可通过使用具有根据X射线的入射位置连续改变的透过量的第一衰减元件测量位移。此时，使用被检体的X射线透过率，该X射线透过率是通过使用具有不根据X射线的入射位置而改变的透过量的第二衰减元件计算的。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线成像装置，包括：分离元件，空间地分离由X射线产生器产生的X射线；第一衰减元件，通过分离元件分离的X射线入射在该第一衰减元件上；第二衰减元件，通过分离元件分离的X射线入射在该第二衰减元件上，该第二衰减元件被设置为与第一衰减元件相邻；和检测单元，被配置为检测穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度，其中，第一衰减元件被配置为使得X射线的透过量依照X射线入射的位置连续改变，并且，其中，第二衰减元件被配置为使得X射线的透过量不依照X射线入射的位置改变。
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