[发明专利]导电密封环静电吸盘有效
申请号: | 201080004816.1 | 申请日: | 2010-01-20 |
公开(公告)号: | CN102282645A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 格林·雷诺兹 | 申请(专利权)人: | 等离子瑟姆有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/68;C23F1/00;H01L21/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 关兆辉;谢丽娜 |
地址: | 美国佛*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供了一种用于衬底处理系统的改进的静电吸盘。所述静电吸盘包括:主体,其具有被构造成支撑衬底的顶表面;电源,其用于向主体施加电压;以及密封环,其位于主体和衬底之间,其中密封环具有导电层。 | ||
搜索关键词: | 导电 密封 静电 吸盘 | ||
【主权项】:
一种衬底处理系统中的静电吸盘,包括:主体,所述主体具有被构造成支撑所述衬底的顶表面;电源,所述电源用于向所述主体施加电压;以及密封环,所述密封环位于所述主体和所述衬底之间,所述密封环具有导电层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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