[发明专利]等离子体涂覆设备和基材表面的涂覆或处理方法有效

专利信息
申请号: 201080006467.7 申请日: 2010-01-15
公开(公告)号: CN102388680A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: M·金德拉特;P·吉蒂内;C·霍伦施泰因 申请(专利权)人: 苏舍美特科公司
主分类号: H05H1/34 分类号: H05H1/34;H01J37/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李永波;杨国治
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 提出一种用于涂覆或处理基材(3)表面的等离子体涂覆设备,其具有可被抽真空的且其中可安放有基材(3)的加工室(2),且具有用于通过加热过程气体来产生等离子体束(5)的等离子体燃烧器(4),其中等离子体燃烧器(4)具有喷嘴(41),等离子体束(5)通过喷嘴从等离子体燃烧器(4)射出,并沿纵轴线(A)在加工室(2)内延伸,其中在喷嘴(41)的下游在加工室(2)内设有机械的限界装置(12),其沿纵轴线(A)延伸,并且保护等离子体束(5)以免受不希望有的侧向颗粒侵入。还提出一种相应的方法。
搜索关键词: 等离子体 设备 基材 表面 处理 方法
【主权项】:
一种用于涂覆或处理基材(3)的表面的等离子体涂覆设备,具有可被抽真空的且可在其中安放该基材(3)的加工室(2),且具有用于通过加热过程气体来产生等离子体束(5)的等离子体燃烧器(4),其中该等离子体燃烧器(4)具有喷嘴(41),等离子体束(5)通过该喷嘴从该等离子体燃烧器(4)射出,并且可沿纵轴线(A)在该加工室(2)内延伸,其特征在于,在该喷嘴(41)的下游在该加工室(2)内设有机械的限界装置(12),该限界装置沿纵轴线(A)延伸,并且保护等离子体束(5)以免受不希望有的侧向颗粒侵入。
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