[发明专利]功率稳定的激光二极管阵列无效
申请号: | 201080006552.3 | 申请日: | 2010-02-26 |
公开(公告)号: | CN102308446A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | A·法伊比什;T·塞格夫 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | H01S5/00 | 分类号: | H01S5/00;H01S5/068;H01S5/40;B41J2/455;H04N1/40;H01S5/06 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于对发射激光二极管(204)的光学功率稳定性进行控制的系统,所述激光二极管在激光二极管结点(312)处显现出温度改变,其中所述温度改变是根据激光二极管工作周期进行预测的。所述系统包括:激光二极管,所述激光二极管布置为在目标(14)上发射光;数据流分析器(408),所述数据流分析器配置为接收引入数据流(324),其中所述数据被分析从而在所述引入数据流(324)中产生代表所述数据的大于零值的图像数据发生因子(424);以及光学功率稳定器(412),所述光学功率稳定器配置为根据所述图像数据发生因子(424)而对应用在激光二极管上的电流强度(428)进行控制。 | ||
搜索关键词: | 功率 稳定 激光二极管 阵列 | ||
【主权项】:
一种光学功率稳定的激光二极管阵列,包括:多个激光二极管;图像数据流,所述图像数据流为所述激光二极管的每一个提供图像数据;数据流分析器,用于对每个激光二极管的所述图像数据流进行分析以确定每个激光二极管的工作周期,并且用于基于所述工作周期对每个激光二极管的预计温度改变进行计算;以及光学功率稳定器,用于根据所述预计温度改变而对应用至每个激光二极管的电流进行控制。
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