[发明专利]具有内适形层的光学膜及其制备方法无效
申请号: | 201080006561.2 | 申请日: | 2010-01-27 |
公开(公告)号: | CN102307716A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | 格雷厄姆·M·克拉克;布莱恩·W·利克;雷蒙德·P·约翰斯顿;保罗·E·洪帕尔;戴尔·L·埃内斯;蒂莫西·J·埃布林克 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B29C47/06 | 分类号: | B29C47/06;B29C47/04;B29D11/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾红霞;彭会 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开一种用于制备复制膜的共挤出方法。所述方法包括提供至少三种材料并且将它们在压料辊和结构化辊之间共挤出的步骤。所述材料包括背面层材料、芯层材料和复制层材料。结构化辊具有被复制到复制层上的表面结构,并且芯层为与复制层适形的内适形层。 | ||
搜索关键词: | 具有 内适形层 光学 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制备膜的共挤出方法,其包括:向挤出模头提供背面层材料、芯层材料和复制层材料;和在压料辊和结构化辊之间共挤出所述背面层材料、所述芯层材料和所述复制层材料,以产生具有背面层、芯层和复制层的膜,其中所述结构化辊具有被复制到所述复制层上的表面结构,并且其中所述芯层为与所述复制层适形的内适形层。
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