[发明专利]曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置有效
| 申请号： | 201080006850.2 | 申请日： | 2010-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN102308259A | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 松井浩平;柴田靖裕;安井亮辅 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;王大方 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置，该曝光方法中，当使用设有多个掩膜图案的光掩膜进行曝光时，不需要将光掩膜移动到曝光装置的照射区域，便能在基板上的不同区域将与形成各个不同的彩色滤光片相对应的各掩膜图案曝光。将具有用于将构成第1彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将构成第2彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第2掩膜图案的光掩膜相对于光源固定，一边搬运基板，一边将来自光源的光选择性地照射第1掩膜图案，将第1区域上的光阻剂连续地曝光，并且，一边搬运基板，一边将来自光源的光选择性地照射第2掩膜图案，将第2区域上的光阻剂连续地曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 彩色 滤光 制造 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，是在同一基板上的第1区域及第2区域中形成互不相同的光阻图案的曝光方法，其特征在于：将具有用于将上述第1区域内的光阻图案的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将上述第2区域内的光阻图案的一部分曝光的第2掩膜图案的光掩膜相对于光源固定，一边搬运上述基板，一边选择性地将来自上述光源的光照射上述第1掩膜图案，将上述第1区域上的光阻剂连续或间歇地曝光，一边搬运上述基板，一边选择性地将来自上述光源的光照射上述第2掩膜图案，将上述第2区域上的光阻剂连续或间歇地曝光。
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