[发明专利]超低曝光后烘烤光致抗蚀剂材料有效
| 申请号： | 201080007232.X | 申请日： | 2010-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN102308258A | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | M·克霍雅斯特;P·瓦拉纳西;D·L·戈尔德法尔布 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08F220/22;C08F220/28 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及包含在聚合物骨架与酸不稳定的缩醛基之间具有侧链间隔基的第一甲基丙烯酸酯单体、具有包括氟代烷基的侧基的第二甲基丙烯酸酯单体及具有侧链烃基的第三甲基丙烯酸酯单体的聚合物。本发明还涉及包含该聚合物、光酸产生剂及浇铸溶剂的光致抗蚀剂制剂。本发明还涉及将由该光致抗蚀剂制剂形成的光致抗蚀剂薄膜图案化的方法，其特征为在约60℃或以下的温度下进行曝光后烘烤。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 烘烤 光致抗蚀剂 材料 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，包含：下列结构的第一单体![]()
下列结构的第二单体![]()
下列结构的第三单体![]()
且其中，X1为酯基、酯链或萘基，R1为缩醛基，R2包括氟代烷基，R3为烷基、环基、杂环基、双环基或杂双环基；且其中，x+y+z等于约100摩尔％。
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