[发明专利]具有自清洁减反射涂层的基材及其制备方法有效
| 申请号： | 201080007637.3 | 申请日： | 2010-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN102317228A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | E·斯幕艾里;A·雷科维奇 | 申请（专利权）人： | 清洁阳光能源有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有至少部分地层叠有涂布层的表面的基材，所述涂布层使表面具有减反射和自清洁性。涂层的特征在于低折射、接触角为至少150°且滑移角为至多10°，并且所述涂层包含以下两种成分的组合：(i)减反射涂层(ARC)成分和(ii)自清洁涂层(SCC)成分。本发明还提供了一种提供具有至少部分地层叠有减反射(AR)自清洁(SC)涂布层的表面的基材的方法，所述方法包括提供具有至少一个表面的基材，和在所述至少一个表面上涂布涂层，所述涂层由如此处所述的ARC成分和SCC成分的组合制备。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 清洁 反射 涂层 基材 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种基材，所述基材包含至少部分地层叠有涂布层的表面，所述涂布层包含减反射涂层(ARC)成分和自清洁涂层(SCC)成分的组合，所述涂布层的特征在于低折射、接触角为至少150°并且滑移角为至多10°。
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