[发明专利]用于高数值孔径光刻系统的偏振监视调制盘设计有效
| 申请号： | 201080008167.2 | 申请日： | 2010-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN102326059A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | T·A·布伦纳;G·R·麦金太尔 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G01J4/00 | 分类号： | G01J4/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 于静;杨晓光 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及诸如晶片的半导体基板的制造，并涉及用于监视在使用用于高数值孔径光刻扫描装置的特别设计的偏振监视调制盘进行投影印刷时入射在光掩模上的偏振的状态的方法。调制盘跨过狭缝测量25个位置并被设计用于大于0.85的数值孔径。监视器提供大的偏振依赖性信号，该信号对偏振更敏感。还提供使用两个调制盘的双曝光方法，其中第一调制盘(44)包含偏振监视器(22，24)、透光区基准区域(42)和低剂量对准标记(40)。第二调制盘(46)包含标准对准标记(38)和标签。对于单曝光方法，使用三PSF低剂量对准标记(40)。调制盘还提供电磁偏置，其中依赖于边缘的蚀刻深度而使每个边缘偏置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 数值孔径 光刻 系统 偏振 监视 调制 设计 | ||
【主权项】：
一种用于光刻扫描装置的偏振监视调制盘(10)，包括：透明平面基板，其具有正面(14)和背面(12)，在所述背面(12)和正面(14)上都具有不透明层；以及在所述基板上的针孔(16)‑簇(20)组合的X‑Y行和列阵列；其中每个簇(20)包括位于所述基板的所述正面(14)上的所述不透明层中的多个偏振计组(18)的X‑Y阵列，其中每个簇(20)邻近在所述基板的所述背面(12)上的所述不透明层中的对应的针孔(16)；每组偏振计(18)包括在每组内的多个偏振图监视器的X‑Y阵列，每个偏振计组内的每个监视器与所述偏振计组的中心相距限定的距离，并且每组偏振计具有记号，所述记号标识簇行、簇列、所述偏振计组的中心相对于簇中心的X位置以及所述偏振计组的中心相对于簇中心的Y位置；并且当来自光源的照射穿过所述调制盘(10)时，所述监视器依赖于照射的偏振而在图像平面处产生可测量的输出信号。
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