[发明专利]用于使激光辐射均匀化的设备无效
| 申请号： | 201080008928.4 | 申请日： | 2010-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN102334060A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | D·巴托谢韦斯基;M·亚尔奇斯基 | 申请（专利权）人： | LIMO专利管理有限及两合公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 赵科 |
| 地址： | 德国盖*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种使具有至少在与激光辐射的传播方向(Z)垂直的第一方向(X)上相互间隔开的子射束(2)的激光辐射均匀化的设备，尤其用于使源自激光二极管阵列的激光辐射均匀化，包括折射面(6，6a)的阵列(5)，折射面至少能不同地偏转要均匀化的激光辐射的多个子射束(2)使得这些子射束在穿过折射面(6，6a)之后与穿过折射面(6，6a)之前相比至少部分地相互更会聚地行进；以及透镜装置(7)，穿过折射面(6，6a)的阵列(5)的子射束(2)能通过透镜装置，透镜装置(7)能在工作面(8)上叠加子射束(2)中至少一些子射束。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光 辐射 均匀 设备 | ||
【主权项】：
一种用于使激光辐射均匀化的设备，所述激光辐射具有至少在与所述激光辐射的传播方向(Z)垂直的第一方向(X)上相互间隔开的子射束(2)，所述设备尤其用于使源自激光二极管阵列的激光辐射均匀化，所述设备包括：折射面(6，6a)的阵列(5)，所述折射面至少能不同地偏转要均匀化的所述激光辐射的多个子射束(2)，使得这些子射束在穿过所述折射面(6，6a)之后与穿过所述折射面(6，6a)之前相比至少部分地相互更会聚地行进，以及透镜装置(7)，穿过所述折射面(6，6a)的阵列(5)的子射束(2)能通过所述透镜装置，所述透镜装置(7)能在工作面(8)上叠加所述子射束(2)中至少一些子射束。
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