[发明专利]Ⅲ族氮化物半导体激光元件、及制作Ⅲ族氮化物半导体激光元件的方法无效

专利信息
申请号: 201080009778.9 申请日: 2010-12-28
公开(公告)号: CN102714397A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 善积祐介;高木慎平;盐谷阳平;京野孝史;足立真宽;上野昌纪;住友隆道;德山慎司;片山浩二;中村孝夫;池上隆俊 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 谢丽娜;关兆辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种在六方晶系III族氮化物的c轴朝m轴的方向倾斜的支持基体的半极性面上,具有较高的振荡良率的激光共振器的III族氮化物半导体激光元件。成为激光共振器的第1及第2割断面27、29与m-n面交叉。III族氮化物半导体激光元件11具有在m-n面与半极性面17a的交叉线的方向上延伸的激光波导。因此,可利用能够成为低阈值电流的带间跃迁的发光。在激光构造体13中,第1面13a为第2面13b的相反侧的面。第1及第2割断面27、29从第1面13a的边缘13c延伸至第2面13b的边缘13d为止。割断面27、29并非通过干式蚀刻形成,与c面、m面或a面等以往的裂面不同。
搜索关键词: 氮化物 半导体 激光 元件 制作 方法
【主权项】:
一种III族氮化物半导体激光元件,其特征在于,包含:激光构造体,包括由六方晶系III族氮化物半导体构成且具有半极性主面的支持基体、以及设置于上述支持基体的上述半极性主面上的半导体区域;以及电极,设置于上述激光构造体的上述半导体区域上,上述半导体区域包括:第1包覆层,由第1导电型的氮化镓系半导体构成;第2包覆层,由第2导电型的氮化镓系半导体构成;及活性层,设置于上述第1包覆层与上述第2包覆层之间,上述第1包覆层、上述第2包覆层及上述活性层沿着上述半极性主面的法线轴排列,上述活性层包含氮化镓系半导体层,上述支持基体的上述六方晶系III族氮化物半导体的c轴朝向上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴的方向,相对于上述法线轴以有限的角度ALPHA倾斜,上述角度ALPHA为45度以上80度以下或100度以上135度以下的范围,上述激光构造体包含与由上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴及上述法线轴所规定的m‑n面交叉的第1及第2割断面,该III族氮化物半导体激光元件的激光共振器包含上述第1及第2割断面,上述激光构造体包含第1及第2面,上述第1面为上述第2面的相反侧的面,上述第1及第2割断面分别自上述第1面的边缘延伸至上述第2面的边缘为止,在上述第1及第2割断面上分别出现上述支持基体的端面及上述半导体区域的端面,将L设为4以上的整数,上述第1及第2割断面包含处于从以面指数(‑1,0,1,L)或(1,0,‑1,‑L)所表示的面起±5度的范围内的区域。
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