[发明专利]狭缝模具涂布方法有效
| 申请号： | 201080010828.5 | 申请日： | 2010-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN102341359A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 纳尼·乔格·阿福斯坦;帕斯卡·约瑟夫·保罗·布司肯斯;马尼克斯·鲁伊杰曼斯 | 申请（专利权）人： | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 |
| 主分类号： | C07C17/00 | 分类号： | C07C17/00;B05D5/06 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 李剑 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种将光学涂层涂覆到基材上的方法，所述方法包括如下步骤：(a)制备含有溶剂组分和成膜组分的光学涂层制剂；(b)利用模具涂布机通过将所述光学涂层涂覆到基材上而形成被涂基材，其中所述被涂覆的光学涂层在所述基材上形成厚度为8μm至100μm的湿膜；(c)干燥所述被涂基材，其中所述被涂基材处于基本水平的平面，从而使所述湿膜转换成厚度小于1μm的干膜。所述光学涂层制剂包含，相对于所述光学涂层制剂的总重量，大于0.3wt％但不超过10％的固体。所述被涂基材可选被固化。 | ||
| 搜索关键词： | 狭缝 模具 方法 | ||
【主权项】：
一种将光学涂层涂覆到基材上的方法，所述方法包括如下步骤：a.制备含有溶剂组分和成膜组分的光学涂层制剂；b.利用模具涂布机通过将所述光学涂层涂覆到基材上而形成被涂基材，其中所述被涂覆的光学涂层在所述基材上形成厚度为8μm至100μm的湿膜；c.干燥所述被涂基材，其中所述被涂基材处于基本水平的平面，从而使所述湿膜转换成厚度小于1μm的干膜；以及d.可选地固化所述被涂基材，其中，所述光学涂层制剂包含，相对于所述光学涂层制剂的总重量，大于0.3wt％但不超过10％的固体。
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