[发明专利]基板清洗方法

摘要

本发明提供一种基板清洗方法，其能够以简单的装置构造实施，用于以短时间对形成有微细图案的基板进行清洗，并不会对该微细图案坏带来影响。从对晶片(W)的表面实施规定的加工的处理腔室向实施晶片(W)的清洗的清洗腔室输送晶片(W)，在清洗腔内将晶片(W)冷却到规定温度，将作为超流体的超流动氦供给到晶片(W)的表面，从晶片(W)的表面使超流动氦流出，由此冲走微细图案内的污染成分。

主权项

一种基板清洗方法，是对表面形成有微细图案的基板清洗的基板进行清洗方法，该基板清洗方法的特征在于，包括：将所述基板从在所述基板的表面实施规定的加工的处理腔室向实施所述基板的清洗的清洗腔室输送的输送步骤；在所述清洗腔室内将所述基板冷却到规定的温度的冷却步骤；和向所述基板的表面供给超流体，然后，通过使所述超流体从所述基板的表面流出而将所述微细图案内的污染成分冲走的超流动清洗步骤。