[发明专利]用于低温沉积钌的组合物和方法无效
| 申请号： | 201080011538.2 | 申请日： | 2010-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN102348829A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | A·帕兰杰佩;V·V·瓦茨;R·布贝尔 | 申请（专利权）人： | 威科仪器有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王磊;过晓东 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于沉积钌的组合物和方法。将包含四氧化钌RuO4的组合物用作前体溶液608，以通过ALD、等离子体增强沉积和/或CVD来涂覆基片400。可使用定期的等离子致密化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 低温 沉积 组合 方法 | ||
【主权项】：
化学组合物，其包含：第一溶剂；第二溶剂；以及在所述第一溶剂和第二溶剂中的浓度大于1.0重量％的四氧化钌(RuO4)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
