[发明专利]模拟太阳光照射装置无效
| 申请号： | 201080011802.2 | 申请日： | 2010-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102341641A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 南功治 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | F21S2/00 | 分类号： | F21S2/00;G02B5/02;F21Y101/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 从氙光源(1)照射的氙光通过锥形耦合器(5)及气团滤波器(5a)朝向波长选择反射镜(7)。波长选择反射镜(7)使氙光的短波长侧反射并出射至锥形部件(8)。从卤素光源(2)照射的卤素光通过锥形耦合器(6)及反光镜(10)朝向波长选择反射镜(7)。波长选择反射镜(7)使卤素光的长波长侧透过并出射至锥形部件(8)。锥形部件(8)的宽度从光的入射面向出射面缓缓减小。从锥形部件(8)出射的光变化为使得来于氙光的分量的放射方向性、和来于卤素光的分量的放射方向性互相类似。据此，本发明提供一种模拟太阳光照射装置(1)，将均一的照射分布的模拟太阳光照射在照射面(12)。 | ||
| 搜索关键词： | 模拟 太阳光 照射 装置 | ||
【主权项】：
一种模拟太阳光照射装置，将模拟太阳光照射在照射面，其特征在于，包括：第一光源，照射第一光；第一滤光器，调整所述照射的第一光的发光光谱；第二光源，照射与所述第一光不同的第二光；第二滤光器，调整所述照射的第二光的发光光谱；光选择单元，选择所述发光光谱被调整的所述第一光的短波长侧、和所述发光光谱被调整的所述第二光的长波长侧并出射；光透过单元，使所述出射的光透过，并且宽度从该光的入射面向出射面缓缓减小；导光板，入射有从所述光透过单元出射的光；以及光反射单元，形成于所述导光板的内部，使入射至所述导光板的光向所述照射面反射。
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