[发明专利]定影装置和成像设备

摘要

本发明公开了一种定影装置，包括：包括加热元件的定影元件；压接触所述定影元件以形成辊隙部分的压力施加元件；感应加热加热元件的激励线圈；探测压力施加元件的第一温度和定影元件的第一周围温度的第一温度探测单元；探测定影元件的第二温度的第二温度探测单元；以及控制单元，其被构造成选择温度控制模式或功率控制模式，以控制向激励线圈供给的电功率，当第一温度超过第一阈值温度或第一周围温度超过第一周围阈值温度时，控制单元选择温度控制模式；而当第一温度等于或小于第一阈值温度或第一周围温度等于或小于第一周围阈值温度时，控制单元选择功率控制模式。

主权项

一种定影装置，包括：定影元件，该定影元件被构造成包括加热元件；压力施加元件，该压力施加元件被构造成压接触所述定影元件，以在二者之间形成辊隙部分；激励线圈，该激励线圈被构造成感应加热所述定影元件的加热元件；第一温度探测单元，其被构造成探测压力施加元件的第一温度和定影元件的第一周围温度中的一个；第二温度探测单元，其被构造成探测定影元件的第二温度；以及控制单元，其被构造成选择温度控制模式和功率控制模式中的一个，以控制向激励线圈供给的电功率，其中，在接收到表示电流已经施加到激励线圈上的信号时，当第一温度探测单元探测到的压力施加元件的第一温度超过第一阈值温度或者第一温度探测单元探测到的定影元件的第一周围温度超过第一周围阈值温度时，控制单元选择温度控制模式，在该模式下，根据由第二温度探测单元探测到的定影元件的第二温度来确定供给激励线圈的电功率；并且在接收到表示电流已经施加到激励线圈上的信号时，当第一温度探测单元探测到的压力施加元件的第一温度等于或小于第一阈值温度或者第一温度探测单元探测到的定影元件的第一周围温度等于或小于第一周围阈值温度时，控制单元选择功率控制模式，在该模式下，预定的恒定电功率被连续施加到激励线圈。