[发明专利]光波导装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080012377.9 申请日: 2010-03-15
公开(公告)号: CN102356337A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 渡边真也 申请(专利权)人: 日本电气株式会社
主分类号: G02B6/122 分类号: G02B6/122;G02B6/13;G02B6/42;H01L31/0232
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 梁晓广;关兆辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种光波导装置,其包括光学元件安装座(17),所述光学元件安装座(17)包括支撑第一光学元件(18a)的第一基块(19a)和支撑有源层深度小于所述第一光学元件(18a)的有源层深度的第二光学元件(18b)的第二基块(19b)。第二基块(19b)由堆叠数量大于所述第一基块(19a)的堆叠数量的上覆层的堆叠形成。第一和第二基块之间的高度差(h1)等于第一和第二光学元件之间的有源层深度差(d1-d2)。
搜索关键词: 波导 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光波导装置,其包括光波导和光学元件安装座,所述光波导由包括形成在基底上的下覆层、芯层和上覆层的光波导形成层构成,在去除所述光波导形成层的一部分的区域中,光学元件安装在所述光学元件安装座上,所述光学元件中的至少一个光学元件光学耦合到通过去除所述光波导形成层的所述部分而暴露的所述光波导的端面,其中所述光学元件安装座包括:第一基块,支撑作为所述光学元件中的一个光学元件的第一光学元件;和第二基块,支撑作为所述光学元件中的一个光学元件的第二光学元件,所述第二光学元件的有源层深度小于所述第一光学元件的有源层深度,并且其中所述第二基块由堆叠数量大于所述第一基块的堆叠数量的上覆层形成,并且所述第一和第二基块之间的高度差等于所述第一和第二光学元件之间的有源层深度差。
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