[发明专利]抗蚀剂图案的形成方法以及设备无效
| 申请号： | 201080012819.X | 申请日： | 2010-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN102362225A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 上原刚;青山哲平 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F1/48;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是提供一种抗蚀剂图案的形成方法及设备。当在光致抗蚀剂等设备上形成抗蚀剂图案时，通过均匀化抗蚀剂层的厚度后进行曝光，从而得到良好的抗蚀剂图案。对基板(91)涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂层(93)(抗蚀剂涂敷工序)。然后，使灰化用处理气体通过压力接近大气压的放电空间(13)而喷出，并与抗蚀剂层(93)接触(大气压远程等离子灰化工序)。接着，对抗蚀剂层(93)局部地照射光(曝光工序)。然后，使抗蚀剂层(93)接触显影液(5)(显影工序)。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 图案 形成 方法 以及 设备 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂图案的形成方法，其特征在于，依次执行：抗蚀剂涂敷工序，在设备的基板上涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂层；大气压远程等离子灰化工序，使灰化用处理气体通过压力接近大气压的放电空间而喷出并接触所述抗蚀剂层；曝光工序，对所述抗蚀剂层局部地照射光；和显影工序，使所述抗蚀剂层接触显影液。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于积水化学工业株式会社，未经积水化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080012819.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种刚体空间运动状态的傅里埃输出方法
- 下一篇：介电组合物
