[发明专利]光学成像写入系统有效
| 申请号： | 201080012879.1 | 申请日： | 2010-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN102362223A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 陈正方;T·莱迪格 | 申请（专利权）人： | 派因布鲁克成像系统公司 |
| 主分类号： | G03C5/00 | 分类号： | G03C5/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 酆迅;郑菊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的系统及方法。公开了一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的方法。在一种实施例中，该方法包括提供一平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一或多个平行阵列；接收一待写入该基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；指派一或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光掩膜数据图案；控制该复数个SLM成像单元，以将该复数个分区光掩膜数据图案平行写入该基板；控制该复数个SLM成像单元的移动，使其涵盖该基板的不同区域；及控制该SLM成像单元的移动，使其与该复数个分区光掩膜数据图案的连续写入作业同步。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 写入 系统 | ||
【主权项】：
一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的方法，包含下列步骤：提供一平行成像写入系统，其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元，且该SLM成像单元排列成一或多个平行阵列；接收一待写入该基板的光掩膜数据图案；处理该光掩膜数据图案，以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案；指派一或多个所述SLM成像单元负责处理各该分区光掩膜数据图案；控制该复数个SLM成像单元，以将该复数个分区光掩膜数据图案平行写入该基板；控制该复数个SLM成像单元的移动，使其涵盖该基板的不同区域；及控制该SLM成像单元的移动，使其与该复数个分区光掩膜数据图案的连续写入作业同步。
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