[发明专利]电致发光装置无效

专利信息
申请号: 201080014241.1 申请日: 2010-03-29
公开(公告)号: CN102365768A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: 笠松直史 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H05B33/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种电致发光装置(1),所述电致发光装置(1)获得了高光发射效率、高耐久性和高提取效率。该装置包括电极(11,17);沉积在电极(11,17)之间的多个层(12至16);和在多个层(12至16)之间的发光区(14)。发光区(14)通过在电极(11,17)之间施加电场而发光。多个层(12至16)的每一层的厚度和折射率满足在电致发光装置(1)中的共振条件,使得由从发光区(14)发射的光所致的驻波(19)的电场的强度最高的区域与发光区(14)基本上重合。发光区(14)附近布置有金属构件(20),所述金属构件(20)在其表面上由发射光所致而诱导等离子体激元共振。
搜索关键词: 电致发光 装置
【主权项】:
一种电致发光装置,所述电致发光装置包括:电极;多个层,所述多个层一个在另一个之上地沉积在所述电极之间;和在所述多个层之间的发光区,所述发光区通过在所述电极之间施加电场而发光,其中所述多个层的每一层的厚度和折射率满足在所述电致发光装置中的共振条件,使得由从所述发光区发射的光所致的驻波的电场的强度最高的区域与所述发光区基本上重合,并且其中所述发光区附近布置有金属构件,所述金属构件在其表面上由所述发射光所致而诱导等离子体激元共振。
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