[发明专利]电子元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080014395.0 申请日: 2010-03-01
公开(公告)号: CN102369583A 公开(公告)日: 2012-03-07
发明(设计)人: 石渡祐;三崎胜弘 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01F41/04 分类号: H01F41/04;H01F17/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 田军锋;舒艳君
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供能够抑制外部电极从层叠体剥落的电子元件的制造方法。层叠绝缘体层(20、22a~22f)和线圈导体(24)。在绝缘体层(22f)上形成设置有沿y轴向延伸的多个开口(O9、O10)的绝缘体层(22g)。在绝缘体层(22g)上形成设置有沿y轴向延伸的多个开口(O11、O12)的绝缘体层(22h)。对开口(O9~O12)填充导电材料,以与线圈导体(24)电连接的方式形成由外部电极(14)构成的导体层(15、16)。对绝缘体层(20、22a~22h)以及导体层(15、16)进行烧制。
搜索关键词: 电子元件 制造 方法
【主权项】:
一种电子元件的制造方法,其特征在于,具备:层叠多个第一绝缘体层与多个第一导体层的工序;在所述第一绝缘体层上形成第二绝缘体层的工序,该第二绝缘体层设置有沿规定方向延伸的多个第一槽;在所述第一槽的内周面、以及所述第二绝缘体层上的与该第一槽邻接的区域,以与所述第一导体层电连接的方式形成成为外部电极的第二导体层的工序;以及对所述第一绝缘体层、所述第二绝缘体层、所述第一导体层以及所述第二导体层进行烧制的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080014395.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top