[发明专利]用于将衬底保持在材料沉积设备中的装置有效
| 申请号： | 201080015151.4 | 申请日： | 2010-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN102482759A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 约翰内斯·克里内;埃尔温·艾林;卡勒-海因茨·霍豪斯;沃尔夫冈·格尔根;安德烈亚斯·洛维奇;马克·菲利彭斯;理查德·沙伊歇尔;安斯加尔·菲舍尔;马丁·穆勒 | 申请（专利权）人： | 欧司朗光电半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;董文国 |
| 地址： | 德国雷*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明描述一种用于将衬底(10)保持在材料沉积设备(50)中的装置，所述衬底(10)具有其上待沉积材料(M)的沉积侧(10a)，并且所述装置(1)包括：遮蔽掩模(20)，包括多个沉积开口(D1)；支撑结构(30)，包括多个环绕开口(S1)；和用于保持所述支撑掩模(30)的支撑结构保持装置(6)和/或用于保持所述衬底(10)的衬底保持装置(5)，使得所述支撑结构k(30)在与所述衬底(10)的沉积侧(10a)相同的侧上，并且所述遮蔽掩模(20)位于所述衬底(10)和所述支撑结构(30)之间，使得所述遮蔽掩模(10)的至少一个沉积开口(D1)位于所述支撑结构(30)的对应环绕开口(S1)内。本发明还描述了一种材料沉积设备(50)，包括用于保持衬底(10)的装置(1)。本发明还描述将衬底(10)、遮蔽掩模(10)和支撑结构(30)布置在材料沉积设备(50)中的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 保持 材料 沉积 设备 中的 装置 | ||
【主权项】：
一种用于将衬底(10)保持在材料沉积设备()中的装置，所述衬底(10)具有其上待沉积材料(M)的沉积侧(10a)，并且所述装置(1)包括：‑遮蔽掩模(20)，包括多个沉积开口(D1)；‑支撑结构(30)，包括多个环绕开口(S1)；和‑用于保持所述支撑掩模(30)的支撑结构保持装置(6)和/或用于保持所述衬底(10)的衬底保持装置(5)，使得所述支撑结构(30)在与所述衬底(10)的沉积侧(10a)相同的侧上，并且所述遮蔽掩模(20)位于所述衬底(10)和所述支撑结构(30)之间，使得所述遮蔽掩模(10)的至少一个沉积开口(D1)位于所述支撑结构(30)的对应环绕开口(S1)内。
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