[发明专利]成像光学部件以及具有此类型的成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置有效

专利信息
申请号: 201080015414.1 申请日: 2010-03-16
公开(公告)号: CN102378935A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 约翰尼斯.泽尔纳;奥雷利安.多多克;马科.普雷托里厄斯;克里斯托夫.门克;威廉.乌尔里克;汉斯-于尔根.曼 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G02B17/06 分类号: G02B17/06;G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学部件(7),其将物平面(5)中的物场(4)成像在像平面(9)中的像场(8)中。光瞳平面(17)布置在所述物场(4)与所述像场(8)之间的成像光束路径中。光阑(2)布置在所述光瞳平面(17)中。所述光瞳平面(17)倾斜,即采用相对于所述物平面(5)的大于0.1°的角度(α)。从而产生这样的成像光学部件,利用该成像光学部件,实现小成像误差、可管理的制造以及成像光的良好通过量的可处理组合。
搜索关键词: 成像 光学 部件 以及 具有 类型 用于 微光 投射 曝光 装置
【主权项】:
具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学部件(7),其将物平面(5)中的物场(4)成像在像平面(9)中的像场(8)中,‑具有光瞳平面(17),其布置在所述物场(4)与所述像场(8)之间的成像光束路径中,‑具有光阑(2),其布置在所述光瞳平面(17)中,‑其中,所述光瞳平面(17)相对于所述物平面(5)倾斜,换言之,采用相对于所述物平面(5)的大于0.1°的角度(α),‑其中所述成像光学部件(7)具有超过4个反射镜(M1至M6)。
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