[发明专利]In-Ga-Zn系氧化物、氧化物烧结体以及溅射靶有效

专利信息
申请号: 201080016347.5 申请日: 2010-11-17
公开(公告)号: CN102395542A 公开(公告)日: 2012-03-28
发明(设计)人: 矢野公规;糸濑将之;川岛浩和 申请(专利权)人: 出光兴产株式会社
主分类号: C04B35/453 分类号: C04B35/453;C01G15/00;C04B35/00;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/336;H01L29/786
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 翟赟琪
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种氧化物,其含有铟元素(In)、镓元素(Ga)以及锌元素(Zn),通过X射线衍射测定(Cukα射线),在入射角(2θ)为7.0°~8.4°、30.6°~32.0°、33.8°~35.8°、53.5°~56.5°以及56.5°~59.5°的各位置处观测到衍射峰,并且,在2θ为30.6°~32.0°以及33.8°~35.8°的位置处观测到的衍射峰中的一个为主峰,其他为副峰。
搜索关键词: in ga zn 氧化物 烧结 以及 溅射
【主权项】:
一种氧化物,其含有铟元素In、镓元素Ga以及锌元素Zn,通过X射线衍射测定(Cukα射线),在入射角2θ为7.0°~8.4°、30.6°~32.0°、33.8°~35.8°、53.5°~56.5°以及56.5°~59.5°的各位置处能观测到衍射峰,并且,在2θ为30.6°~32.0°以及33.8°~35.8°的位置处观测到的衍射峰中的一个为主峰,其他为副峰。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于出光兴产株式会社,未经出光兴产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080016347.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top