[发明专利]检测晶片上的缺陷有效

专利信息
申请号: 201080016422.8 申请日: 2010-02-10
公开(公告)号: CN102396058A 公开(公告)日: 2012-03-28
发明(设计)人: J·黄;Y·张;S·陈;T·罗;L·高;R·沃林福德 申请(专利权)人: 恪纳腾公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01N21/88
代理公司: 北京嘉和天工知识产权代理事务所 11269 代理人: 严慎
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了用于检测晶片上的缺陷的方法和系统。
搜索关键词: 检测 晶片 缺陷
【主权项】:
一种计算机实现的方法,所述方法用来检测晶片上的缺陷,所述方法包括:获取由检查系统针对晶片产生的原始输出;识别与所述晶片上形成的图案化特征的一个或更多个几何特性对应的所述原始输出的一个或更多个特性;基于识别出的所述原始输出的一个或更多个特性,将所述原始输出中的单个输出分配到不同部分,使得与所述不同部分中的各部分对应的所述图案化特征的一个或更多个几何特性是不同的;将一个或更多个缺陷检测参数单独分配到所述不同部分;以及将分配的所述一个或更多个缺陷检测参数应用于被分配到所述不同部分的所述单个输出,由此检测所述晶片上的缺陷。
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