[发明专利]在表面具有凸状图案的片材以及形成该凸状图案的方法无效
申请号: | 201080016473.0 | 申请日: | 2010-04-08 |
公开(公告)号: | CN102395471A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 米岛贞行;曾我部三志;青田久男;御领园优幸;大宫由美子 | 申请(专利权)人: | 株式会社棚泽八光社 |
主分类号: | B44C1/20 | 分类号: | B44C1/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 闫小龙;王忠忠 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种在片材表面形成凸状图案的方法,具有:对应于应该得到的凸状图案,将具有凸状形成区域(40)的掩蔽膜(4)覆盖在感光性树脂膜(21)上的工序;从该掩蔽膜(4)的外侧对感光性树脂膜(21)进行曝光的工序;除去曝光后的感光性树脂膜(21)的未曝光部,残留曝光部(22),形成片材(2)的工序,其中,掩蔽膜(4)的凸状形成区域(40)以用灰度表现浓淡的方式在遮光部(42)的外侧依次形成半透光部(43)、透光部(41),使透光率从遮光部(42)向透光部(41)阶梯式地上升。 | ||
搜索关键词: | 表面 具有 图案 以及 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种在片材表面形成凸状图案的方法,具有:对应于应该得到的凸状图案,将具有凸状形成区域(40)的掩蔽膜(4)覆盖在感光性树脂膜(21)上的工序;从该掩蔽膜(4)的外侧对感光性树脂膜(21)进行曝光的工序;除去曝光后的感光性树脂膜(21)的未曝光部,残留曝光部(22),形成片材(2)的工序,其特征在于,掩蔽膜(4)的凸状形成区域(40)形成以灰度表现浓淡的遮光部(42)、半透光部(43)、透光部(41),使透光率从遮光部(42)向透光部(41)阶梯式地上升。
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